設(shè)備特征

1、設(shè)備具有氮?dú)饽Ｊ胶头堑Ｊ焦袒δ?，非氮?dú)饽Ｊ剑嚎蛇x自動(dòng)或手動(dòng)模式，自

動(dòng)模式下，由門禁感應(yīng)控制UVLED開關(guān)；手動(dòng)模式下，由觸摸屏控制UVLED開關(guān)。

2、氮?dú)饽Ｊ剑宏P(guān)門后點(diǎn)擊啟動(dòng)按鈕開始充氮?dú)猓?dāng)充氣時(shí)間及內(nèi)腔氣壓到達(dá)設(shè)定值，

UVLED開始照射并計(jì)時(shí)，照射時(shí)間到后，自動(dòng)關(guān)閉UVLED并打開排氣閥，待排氣

完成后方可開啟安全門。

3、設(shè)備支持充氮?dú)饨涌冢涞獨(dú)鈺r(shí)間及壓力可調(diào)，腔內(nèi)氣壓實(shí)時(shí)檢測及過壓保護(hù)。

4、設(shè)備具備生產(chǎn)計(jì)數(shù)、歷史數(shù)據(jù)查詢等功能。

準(zhǔn)分子光源特點(diǎn)

1、172 nm 無需在真空或特殊氣體環(huán)境下操作，可以在常壓空氣或惰性氣體環(huán)境中直接使用，大大簡化了設(shè)備和使用流程;

2、 172 nm 的高能量光子能夠直接打斷或激發(fā)分子中的化學(xué)鍵，引發(fā)光化學(xué)反應(yīng)。這使得它在不依賴光引發(fā)劑的情況下就能直接處理材料表面;

3、能量高度集中在光源附近很小的區(qū)域內(nèi)，可以實(shí)現(xiàn)非常局部的表面改性或清潔，對(duì)鄰近區(qū)域影響極小;

4、 在空氣環(huán)境中，這些自由基迅速與氧氣、臭氧或水反應(yīng)，在材料表面引入含氧官能團(tuán)（如 -OH, C=O, COOH），顯著提高表面的親水性、潤濕性和粘附性;

5、172 nm 處理主要是光化學(xué)過程，產(chǎn)生的熱量很少。這使得它非常適合處理熱敏性材料（如某些塑料、薄膜、生物材料）而不引起熱損傷或變形;

6、光源與被處理物體不直接接觸，通過輻射進(jìn)行作用，避免了物理接觸可能帶來的污染或損傷。